特許
J-GLOBAL ID：200903086386974990

塗布方法、塗布装置及びこれにより塗布膜が形成された帯状可撓性支持体を使用したパターン部材の製造方法

発明者：
小川 正太郎

小川 正太郎 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-245207
公開番号（公開出願番号）：特開2004-081964
出願日： 2002年08月26日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：
【課題】膜厚が極薄く、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑な塗布膜を得ることのできる塗布方法及び装置を提供する。【解決手段】塗布ヘッド18のスリット18Cより塗布液を供給しながら、塗布ヘッド18と所定の間隔を隔てた位置で連続的に搬送される帯状可撓性支持体12に、所定膜厚の塗布膜28を形成する塗布方法。塗布ヘッドのスリット中における塗布液の平均流速を100〜500mm/秒とし、塗布直後の塗布膜28の膜厚を2〜40μmとし、かつ、塗布後0.5秒以内に帯状可撓性支持体12を水平状態に支持させる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
塗布ヘッドのスリットより塗布液を供給しながら、該塗布ヘッドと所定の間隔を隔てた位置で連続的に搬送される帯状可撓性支持体に、所定膜厚の塗布膜を形成する塗布方法において、 前記塗布ヘッドのスリット中における前記塗布液の平均流速を100〜500mm/秒とし、塗布直後の前記塗布膜の膜厚を2〜40μmとし、かつ、塗布後0.5秒以内に前記帯状可撓性支持体を水平状態に支持させることを特徴とする塗布方法。
IPC (3件)：
B05D1/26 ,  B05C5/02 ,  H01J9/227
FI (3件)：
B05D1/26 Z ,  B05C5/02 ,  H01J9/227 C
Fターム (45件)：
2H088FA17 ,  2H088FA18 ,  2H088FA21 ,  2H088FA25 ,  2H088FA29 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088HA12 ,  2H088KA30 ,  2H088MA04 ,  2H088MA20 ,  2H091FA02X ,  2H091FA02Z ,  2H091FB12 ,  2H091FC21 ,  2H091FC22 ,  2H091FC29 ,  2H091FD04 ,  2H091GA01 ,  2H091KA10 ,  2H091LA12 ,  2H091LA30 ,  4D075AC02 ,  4D075AC72 ,  4D075AC92 ,  4D075AC94 ,  4D075AC96 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB92Z ,  4D075CA48 ,  4D075DA04 ,  4D075DB36 ,  4D075DB38 ,  4D075DB48 ,  4D075DB53 ,  4D075DC24 ,  4D075EA05 ,  4D075EA19 ,  4F041AA12 ,  4F041AB01 ,  4F041BA56 ,  4F041CA02 ,  4F041CA13 ,  4F041CA22 ,  5C028HH04
引用特許：
審査官引用 (9件)
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