成形体表面の親水加工法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-208592
公開番号（公開出願番号）：特開平5-024951
出願日： 1991年07月24日
公開日（公表日）： 1993年02月02日
要約：

【要約】【目的】成形体表面にその位置に応じてデザイン通りに濃度の選択された親水性基を導入する新規な親水性の光制御法を提供する。【構成】光二量化反応性の感光性基を有する成形体の表面に、これと同じ感光性基を持つ光感応性親水化処理剤の蒸気中で、可視光、紫外光等の光を照射することによって、親水性基を導入する。【効果】本発明の方法を用いれば、従来技術にては到達し得なかった高度の親水性光制御が可能となり、電子回路材料、オフセット印刷のマスター版、包装フィルム、衣料品、生体材料等の成形体の制御された親水加工に利用できる。

請求項（抜粋）：

光二量化反応性の感光性基を有する成形体表面に、該感光性基と光二量化反応を惹起し得る感光性基と少なくとも1個の親水性基を有してなる有機化合物の蒸気中で、紫外光線及び/又は可視光線を照射し、該成形体表面の感光性基と該有機化合物の感光性基を反応させて、その光照射部分に親水性基を導入することを特徴とする成形体表面の親水加工法。

IPC (4件)：

C04B 40/00 , C03C 17/28 , C04B 41/46 , C08J 7/16

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