特許

J-GLOBAL ID：200903086402793837

オキシ水酸化ニッケルの製造方法

発明者： 丸田 順一
出願人/特許権者： 日本電池株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-363276
公開番号（公開出願番号）：特開2001-176508
出願日： 1999年12月21日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：

【要約】【課題】高純度のオキシ水酸化ニッケルの製造方法を確立する。【解決手段】オキシ水酸化ニッケルの製造方法において、水酸化ニッケル粉末または水酸化ニッケル中のニッケルの一部をニッケル以外の金属で置換した化合物粉末とオゾンとを、水酸化ニッケルおよびオキシ水酸化ニッケルの溶解度が1×10-4M/L以下である溶媒中で反応させる工程を備える。

請求項（抜粋）：

水酸化ニッケル粉末または水酸化ニッケル中のニッケルの一部をニッケル以外の金属で置換した化合物粉末とオゾンとを、水酸化ニッケルおよびオキシ水酸化ニッケルの溶解度が1×10-4M/L以下である溶媒中で反応させる工程を備えたことを特徴とする、オキシ水酸化ニッケルの製造方法。

IPC (2件)：

H01M 4/48 ,  H01M 4/32

FI (2件)：

H01M 4/48 ,  H01M 4/32

Fターム (15件)：

5H003AA02 ,  5H003AA04 ,  5H003BA00 ,  5H003BA07 ,  5H003BB04 ,  5H003BD00 ,  5H003BD01 ,  5H003BD03 ,  5H016AA02 ,  5H016BB11 ,  5H016BB18 ,  5H016HH00 ,  5H016HH01 ,  5H016HH11 ,  5H016HH17