特許
J-GLOBAL ID：200903086403654288

露光装置及び露光方法

発明者：
柳原 政光

柳原 政光 について

, 
勝目 智弘

勝目 智弘 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 平木 祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-316451
公開番号（公開出願番号）：特開2001-215718
出願日： 2000年10月17日
公開日（公表日）： 2001年08月10日
要約：
【要約】【課題】 線形補正の誤差の残留成分を最小限に抑えることができ、感光基板及びデバイスの大型化が進む中において高精細化を実現することができる露光装置及び露光方法を提供する。【解決手段】 マスク10と感光基板14とを同期させて走査露光する走査型露光装置に、投影光学系12a〜12eが、基板に投影する投影像の前記走査方向の位置を調整する結像特性調整機構120を備え、走査方向の露光誤差の非線形成分を求め補正値として予め登録しておき、この補正値に基づいて投影光学系の走査方向の結像特性調整機構120を連続的に制御しながらパターン露光を行うようにする。
請求項（抜粋）：
パターンを有したマスクと基板とを所定の走査方向に同期走査して、前記マスクのパターンを投影光学系を介して前記基板に露光する露光装置において、前記投影光学系が、前記基板に投影する投影像の前記走査方向の位置を調整する走査方向調整手段を備えることを特徴とする露光装置。
IPC (4件)：
G03F 7/20 501 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G03F 7/20 501 ,  G03F 7/22 Z ,  G03F 9/00 Z ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 518
Fターム (30件)：
2H097AA12 ,  2H097AB09 ,  2H097BA10 ,  2H097EA01 ,  2H097GB00 ,  2H097KA03 ,  2H097KA29 ,  2H097LA12 ,  5F046AA11 ,  5F046BA05 ,  5F046CA02 ,  5F046CB05 ,  5F046CB20 ,  5F046CB23 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DD06 ,  5F046EA02 ,  5F046EB01 ,  5F046EB02 ,  5F046EC05 ,  5F046ED02 ,  5F046ED03 ,  5F046FA10 ,  5F046FC04
引用特許：
審査官引用 (3件)

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