ドライエッチング方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-284092
公開番号（公開出願番号）：特開平6-132256
出願日： 1992年10月22日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：

【要約】【目的】レジスト除去が容易で、寸法変換差を生じることのないドライエッチング方法を提供する。【構成】被エッチング層上のレジストマスク15表面に(SN)xポリマー膜16を被着させて、次に、S系のエッチングガスにて被エッチング層側壁にイオウ系膜17を堆積させながらエッチングする。(SN)xポリマー膜16はレジストマスクの後退を防止し、寸法変換差が生じることがない。また、堆積物を昇華除去できる。

請求項（抜粋）：

被エッチング層上にレジストマスクを形成した後、該レジストマスクを堆積膜で覆い、その後にエッチングを行うことを特徴とするドライエッチング方法。

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