特許

J-GLOBAL ID：200903086406673259

陶器及びその製造方法

発明者： 伊藤 正昭 ,  町田 光義 ,  安藤 正美 ,  林 浩一 ,  石橋 弘孝 ,  一木 智康
出願人/特許権者： 東陶機器株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-056098
公開番号（公開出願番号）：特開2000-226278
出願日： 1999年03月03日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【課題】 表面に汚れが付着しにくい陶器を提供すること。【解決手段】 焼結温度(1100〜1300度)における熱処理で釉薬層が形成されている陶器において、前記釉薬層の最表層はシリカ粒子が実質的に残存しないことを特徴とする陶器。

請求項（抜粋）：

陶器素地表面に釉薬層が形成されている陶器において、前記釉薬層の最表層は実質的にガラス成分と顔料のみからなることを特徴とする陶器。

IPC (6件)：

C04B 41/86 ,  A47K 1/04 ,  C03C 8/02 ,  C03C 8/22 ,  C04B 41/89 ,  E03D 11/02

FI (6件)：

C04B 41/86 A ,  A47K 1/04 H ,  C03C 8/02 ,  C03C 8/22 ,  C04B 41/89 C ,  E03D 11/02 Z

Fターム (69件)：

2D039AA01 ,  2D039AA04 ,  4G062AA08 ,  4G062AA09 ,  4G062AA15 ,  4G062BB01 ,  4G062CC01 ,  4G062DA06 ,  4G062DB03 ,  4G062DB04 ,  4G062DC01 ,  4G062DD01 ,  4G062DE03 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EB02 ,  4G062EB03 ,  4G062EC03 ,  4G062ED02 ,  4G062ED03 ,  4G062EE03 ,  4G062EE04 ,  4G062EF01 ,  4G062EG01 ,  4G062FA01 ,  4G062FB01 ,  4G062FC02 ,  4G062FC03 ,  4G062FC04 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GA10 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH12 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM07 ,  4G062NN40 ,  4G062PP01 ,  4G062PP02 ,  4G062PP12