特許

J-GLOBAL ID：200903086427799511

基板処理装置

発明者： 内山 茂也 ,  田中 克典
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-345317
公開番号（公開出願番号）：特開平5-190643
出願日： 1991年12月26日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：

【要約】【目的】 基板処理装置において、処理済基板の汚染を防止すること。【構成】 この基板処理装置1は基板移載装置3の基板保持装置15,16に保持手段20,21を有する。保持手段20,21はそれぞれ未処理基板用の保持45と処理済基板用の保持部46とを有する。

請求項（抜粋）：

基板の表面処理を行う処理部と、キャリア内に収納された基板をキャリア内からキャリア外へ、あるいはキャリア外からキャリア内へ同一の基板保持装置により移載する基板移載装置と、前記処理部と基板移載装置との間で基板を搬送する基板搬送ロボットとを備え、前記基板移載装置の基板保持装置に未処理基板用の保持部と処理済基板用の保持部とを設けたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/304 351

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-005434
  
• 特開平2-052449
  
• 特開平2-094647
  
• 特開昭62-222906