特許

J-GLOBAL ID：200903086429496206

金属酸化物薄膜形成用コーティング剤

発明者： 高谷 和樹
出願人/特許権者： 神東塗料株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-276389
公開番号（公開出願番号）：特開平9-095627
出願日： 1995年09月29日
公開日（公表日）： 1997年04月08日
要約：

【要約】【目的】 塗布熱分解により、金属酸化物薄膜を誘電体に形成する有機酸金属塩と、それを溶解する溶剤及び有機物からなる添加剤とを含有するコーティング剤において、塗布し易く、PDPのパネル特性として、実用上望ましい透明性と膜厚を有する、誘電体保護膜を形成出来るコーティング剤を提供する。【構成】 アルカリ土類金属、及び又は稀土類金属の有機酸金属塩、溶剤及び有機物からなる添加剤を含有する金属酸化物薄膜形成用コーティング剤であって、溶剤として多価アルコール酢酸誘導体を含有することを特徴とする、塗布熱分解法により金属酸化物薄膜を形成する金属酸化物薄膜形成用コーティング剤。

請求項（抜粋）：

アルカリ土類金属、及び又は稀土類金属の有機酸金属塩、溶剤及び有機物からなる添加剤を含有する金属酸化物薄膜形成用コーティング剤であって、溶剤として多価アルコール酢酸誘導体を含有することを特徴とする塗布熱分解法により金属酸化物薄膜を形成する金属酸化物薄膜形成用コーティング剤。

IPC (4件)：

C09D 1/00 PCJ ,  C03C 17/27 ,  H01J 9/02 ,  H01J 11/02

FI (4件)：

C09D 1/00 PCJ ,  C03C 17/27 ,  H01J 9/02 F ,  H01J 11/02 B