特許
J-GLOBAL ID：200903086432764351
シームレス再帰反射性シートの製造方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉本 修司 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-534894
公開番号（公開出願番号）：特表平11-505484
出願日： 1996年05月20日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：
【要約】“シームレス”再帰反射性シートの製造方法および装置が記載されている。少なくとも2つの成形型表面(16、16 ́)が用いられ、その各々がプリズム凹所のアレイ区域と空白とを交互に有する。最初の工程で、プリズムが成形型表面の1つ(16)に形成され、ベースフィルム(46)またはウェブに施される。次に、第2の成形型(16 ́)表面上にプリズムが形成され、最初の工程で残された空白区域に施される。
請求項（抜粋）：
少なくとも第1および第2の2つの成形型表面が設けられ、各表面がプリズム凹所のアレイ区域および空白区域を備える再帰反射性シートの製造方法であって、 a) プリズム形成材料を前記第1の成形型表面に施し、その凹所を前記材料で満たす工程と、 b) ベースフィルムを凹所充填成形型表面に施す工程と、 c) 前記材料を前記フィルムに付着して、前記フィルム上にブランク区域を残しながら前記フィルム上にプリズムアレイ区域を形成する工程と、 d) 前記プリズム形成材料を前記第2の成形型表面に施して第2の成形型表面における凹所を前記材料で満たす工程と、 e) 工程c)において形成されたフィルムを工程d)において形成された凹所充填成形型表面に施し、ブランク区域における前記フィルム上にプリズムアレイの追加的区域を形成するように、前記材料を前記第2成形型表面からフィルム上に移すことにより再帰反射性シートの連続的なシームレスフィルムを形成する工程とを備えた再帰反射性シートの製造方法。
IPC (3件)：
B29C 39/18
, B29L 11:00
, G02B 5/124
