特許
J-GLOBAL ID:200903086436915117
還元剤添加量制御方法および装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 敏忠 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-075409
公開番号(公開出願番号):特開2002-273176
出願日: 2001年03月16日
公開日(公表日): 2002年09月24日
要約:
【要約】【課題】適正な量の還元剤を添加することが出来て、脱硝率が高く、しかも設置コストや設置スペースを縮小することが出来る様な還元剤添加量制御方法および装置の提供。【解決手段】 尿素またはアンモニアを還元剤(K)として使用し且つ脱硝触媒(5)を介装している排気系統(3)へ添加される還元剤(K)の量を制御する還元剤添加量制御方法において、脱硝触媒(5)出口部分の排気ガス(GeA)をサンプルガス(Sga)として採取するサンプリング工程と、採取されたサンプルガス(Sga)に包含されるアンモニアを窒素酸化物に酸化する工程と、窒素酸化物センサ(10)によりサンプルガス(Sga)の窒素酸化物含有量を計測する工程と、還元剤(5)添加量とサンプルガス(Sga)の窒素酸化物含有量との特性曲線の最小値を目指して還元剤(5)添加量を調節する還元剤添加量制御工程、とを有している。
請求項(抜粋):
尿素水、アンモニア水、またはアンモニアを還元剤として使用し且つ脱硝触媒を介装している排気系統へ添加される還元剤の量を制御する還元剤添加量制御方法において、脱硝触媒出口部分の排気ガスをサンプルガスとして採取するサンプリング工程と、採取されたサンプルガスに包含されるアンモニアを窒素酸化物に酸化する工程と、窒素酸化物センサによりサンプルガスの窒素酸化物含有量を計測する工程と、還元剤添加量とサンプルガスの窒素酸化物含有量との特性曲線の最小値を目指して還元剤添加量を調節する還元剤添加量制御工程、とを有することを特徴とする還元剤添加量制御方法。
IPC (4件):
B01D 53/94
, B01D 53/86 ZAB
, F01N 3/08
, F01N 9/00
FI (4件):
F01N 3/08 H
, F01N 9/00 Z
, B01D 53/36 101 A
, B01D 53/36 ZAB
Fターム (25件):
3G091AA19
, 3G091AB04
, 3G091BA14
, 3G091CA13
, 3G091CA17
, 3G091CB08
, 3G091DB10
, 3G091DB15
, 3G091DC01
, 3G091DC03
, 3G091EA33
, 3G091GA06
, 3G091HA37
, 3G091HB03
, 4D048AA06
, 4D048AB02
, 4D048AC03
, 4D048AC04
, 4D048CC61
, 4D048DA01
, 4D048DA02
, 4D048DA03
, 4D048DA08
, 4D048DA09
, 4D048DA10
引用特許:
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