処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩原康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-257493
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087304
出願日： 1997年09月05日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】加熱手段の加熱温度を抑えながらも処理液の蒸気を多量に発生させて,かつ,多量に発生した処理液の蒸気を,外部に漏らさず冷却・液化できる処理装置を提供することにある。【解決手段】ウェハWを収納自在な乾燥槽50と,IPA液を加熱して乾燥槽50内にIPA蒸気を発生させるヒータ61とを備えた乾燥処理装置19において,ヒータ61を乾燥槽50の底面60に配置し,底面60の厚さを3.0mm以下にした。乾燥槽50の上方に,乾燥槽50の内壁に沿ってスパイラル状に巻かれた冷却蛇管70を二重に配置した。

請求項（抜粋）：

被処理体を収納自在な処理槽と,処理液を加熱して前記処理槽内に前記処理液の蒸気を発生させる加熱手段とを備えた処理装置において,前記加熱手段を処理槽の底面に配置し,該底面の厚さを3.0mm以下にしたことを特徴とする処理装置。

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