特許
J-GLOBAL ID：200903086444321226
光学式微小変位測定方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光石 俊郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-226172
公開番号（公開出願番号）：特開平5-060557
出願日： 1991年09月05日
公開日（公表日）： 1993年03月09日
要約：
【要約】【目的】 反射率の低い被測定物についての微小変位や表面粗さを高精度で測定する。【構成】 光源1からの光束の一部を光量検出器10で受光し、反射光束を受光する2分割受光素子9A,9Bの出力から光量検出器10の出力の一定値を減算し、被測定物6以外の反射光束に対応する出力による変位出力への影響を除去する。
請求項（抜粋）：
光源からの光束を照射光学系により被測定物に照射し、焦点誤差検出光学系に入射する反射光束の強度分布より焦点誤差を検出する光学式微小変位測定方法において、上記被測定物が存在しない場合に上記焦点誤差検出光学系に入射する照射光学系からの反射光束の光量を補正光量として予め測定しておき、被測定物の微小変位を測定する際に上記焦点誤差検出光学系に入射する反射光束の全体光量から上記補正光量を差し引き強度分布を求めることを特徴とする光学式微小変位測定方法。
IPC (3件)：
G01C 3/06
, G01B 11/30 102
, G01B 21/30 102
