特許
J-GLOBAL ID：200903086444588796
レーザアブレーションによる特徴部形状の再生産制御
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
青山 葆 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-583668
公開番号（公開出願番号）：特表2002-530206
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2002年09月17日
要約：
【要約】本発明は、特に基材がポリマー物品である場合、レーザアブレーションによりその基材に形成される特徴部の形状における精度を高めるために有用な方法に関する。この方法は、固定式調節性板、好ましくは1/4波長あるいは1/2波長の倍数単位での回転あるいはスピン式板から選択された遅延板を通過したレーザ光をポリマー物品に照射するステップを含む。本発明はまた、放射線源と、放射線源と照射対象基材との間に配置されたマスクと、固定式調節性板、回転式板あるいはスピン式板である遅延板とを有する基材にアブレーション処理による特徴部を製造するために有用なレーザ装置に関する。
請求項（抜粋）：
基材にレーザアブレーションによる特徴部を形成するために有用なレーザ装置であって、 レーザ光を出射可能な放射線源と、 該放射線源と照射対象である基材との間に配置された該特徴部を照明するマスクと、 該放射線源と該マスクとの間に配置され、回転式板、固定式調節性板、およびスピン式板からなる群から選択された少なくとも1枚の遅延板と、を含み、該回転式1/2波長板あるいはスピン式1/4波長板を含まないレーザ装置により基材に形成されてきたこれまでの特徴部よりも該特徴部の形状が高精度であるアブレーションによる特徴部を該マスク上に形成する装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
B23K 26/06 E
, B23K 26/06 J
, B23K 26/06 Z
, B41J 3/04 103 N
2C057AF93
, 2C057AP12
, 2C057AP23
, 2C057AQ03
, 4E068CD05
, 4E068CD08
, 4E068CD10
, 4E068DA09
, 4E068DB10
