特許

J-GLOBAL ID：200903086451905870

電子線露光用のマスクと露光装置及び電子線露光方法

発明者： 押野 哲也
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-255309
公開番号（公開出願番号）：特開2000-091191
出願日： 1998年09月09日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：

【要約】【課題】 露光パターンの形状及び/または位置の歪みを生じさせる原因となるステンシルパターンの変形を低減させた電子線露光用のマスクとそれを備えた電子線露光装置及びそのマスクを用いた電子線露光方法を提供すること。【解決手段】 パターン状の貫通穴21、22により感応基板に転写すべきパターンが形成されたメンブレン11、12が支持部材により支持されてなる電子線露光用ステンシルマスクにおいて、単一の貫通孔により形成されるパターンのうち少なくとも一つのパターン41が分割されて、複数の領域11、12に配置されていることを特徴とする電子線露光用ステンシルマスク。

請求項（抜粋）：

パターン状の貫通孔により感応基板に転写すべきパターンが形成されたメンブレンが支持部材により支持されてなる電子線露光用ステンシルマスクにおいて、単一の貫通孔により形成されるパターンのうち少なくとも一つのパターンが分割されて、複数の領域に配置されていることを特徴とする電子線露光用ステンシルマスク。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 504

FI (3件)：

H01L 21/30 541 S ,  G03F 1/16 B ,  G03F 7/20 504

Fターム (10件)：

2H095BA08 ,  2H095BB02 ,  2H095BB10 ,  2H095BB37 ,  2H097AA03 ,  2H097FA09 ,  2H097JA02 ,  5F056AA06 ,  5F056EA04 ,  5F056FA05