特許
J-GLOBAL ID：200903086472083721
磁気記録ヘッドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-095695
公開番号（公開出願番号）：特開2001-283410
出願日： 2000年03月30日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：
【要約】【課題】 下部磁極と上部磁極とを自己整合的に形成しつつ、狭トラック化に対応して上部磁極先端部の幅を狭くした場合、上部磁極の上部(補助磁極部)の磁気ギャップ面側の角部分から漏洩する磁界強度を低減し、記録媒体への信号書き込み時に隣接トラックヘの書き込み、あるいは隣接トラック上の情報を消去するといった問題点を解決することのできる磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 凸部を有する下部磁極の上に凸部を反映した非磁性材料層を形成し、その凸部の周囲にマスク層を形成した後に、非磁性材料層を等方的にエッチングすることにより、湾曲状凹部を形成する。しかる後にマスクを介して異方性エッチングをすることによりテーパ凹部を自己整合的に形成することができる。
請求項（抜粋）：
凸部を有する下部磁極と、前記下部磁極の前記凸部と対向する凸部を有する上部磁極と、前記下部磁極の前記凸部と前記上部磁極の前記凸部との間に設けられた磁気ギャップと、を有する磁気記録ヘッドを製造する方法であって、前記下部磁極の前記凸部の上に前記磁気ギャップを形成する磁気ギャップ形成工程と、前記下部磁極の前記凸部に位置整合した凸部を表面に有する非磁性材料層を前記下部磁極の上に形成する非磁性材料層形成工程と、開口を有するマスク層であって、前記開口下に前記非磁性材料層の前記凸部の上面が存在する、マスク層を前記非磁性材料層の上に形成するマスク層形成工程と、前記マスク層の前記開口を通して前記非磁性材料層を等方的にエッチングすることにより第1の凹部を形成する第1凹部形成工程と、前記第1凹部形成工程の後に、前記マスク層の前記開口を介して前記非磁性材料層を異方的にエッチングすることにより第2の凹部を形成する第2凹部形成工程と、前記第1の凹部と前記第2の凹部に磁性材料を充填して、前記凸部を有する前記上部磁極を形成する上部磁極形成工程と、を備えたことを特徴とする磁気記録ヘッドの製造方法。
Fターム (4件)：
5D033BA12
, 5D033CA02
, 5D033DA07
, 5D033DA08
