減圧低温処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋敬四郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-195227
公開番号（公開出願番号）：特開平9-045648
出願日： 1995年07月31日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【課題】安定した低温の減圧雰囲気を得ることができる減圧低温処理装置を提供する。【解決手段】内部空間を画定する外壁と、前記内部空間内に配置され、室温よりも低温の流体を噴出してガス流を形成するノズルと、少なくとも前記ガス流の流路上に配置され、前記内部空間を前記ノズルが配置された第1室と前記ノズルが配置されていない第2室とに分離するシールド板と、前記第1室内に配置され、前記ガス流の流路上に処理対象物を支持する支持手段と、前記第1室内及び第2室内を排気する排気手段とを有する。

請求項（抜粋）：

内部空間を画定する外壁と、前記内部空間内に配置され、室温よりも低温の流体を噴出してガス流を形成するノズルと、少なくとも前記ガス流の流路上に配置され、前記内部空間を前記ノズルが配置された第1室と前記ノズルが配置されていない第2室とに分離するシールド板と、前記第1室内に配置され、前記ガス流の流路上に処理対象物を支持する支持手段と、前記第1室内及び第2室内を排気する排気手段とを有する減圧低温処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 341 G , H01L 21/304 341 M

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