特許
J-GLOBAL ID:200903086473022637
低亜硝酸塩、ニトロソアミン、および低残留過酸化物レベルを有する単長鎖アミンオキシド界面活性剤調製方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
谷 義一 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-583854
公開番号(公開出願番号):特表2002-530368
出願日: 1999年11月18日
公開日(公表日): 2002年09月17日
要約:
【要約】単長鎖アミンオキシド界面活性剤を、相修飾溶媒の存在なしに、アミン重量の約2.5%未満のレベルで存在する炭酸水素塩材料の存在下において制御された温度条件下で酸化された時、アミン重量の約30%以上の活性レベルを含有し、低い亜硝酸塩、およびニトロソアミンのレベル、および低レベルの残留過酸化水素を有して調製することができる。
請求項(抜粋):
30%より多いアミンオキシドを含有する水性単長鎖アミンオキシド界面活性剤組成物調製方法であって、前記方法は:A. 炭酸水素塩の水溶液を形成する工程であって、前記炭酸水素塩の量は工程Bのアミンの0.3質量%から2.5質量%であり、および前記炭酸水素塩はアルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ土類炭酸水素塩、炭酸水素塩前駆物質、およびそれらの混合物からなる群から選択される工程と、B. 以下の一般式を有する第3級アミンを付加する工程と、 【化1】 (式中R1およびR2のそれぞれは、C1-C4アルキルまたはヒドロキシアルキル基であり、およびR3はC8からC18のアルキルまたはアルケニル基である)C. 過酸化水素を用いて前記アミンを酸化して以下の一般式を有する対応する単長鎖アミンオキシドを形成する工程と 【化2】 (式中R1、R2およびR3は前記のように定義される)を具え、ここで反応の発熱は温度が60°Cから70°Cの範囲内に到達するまで許容され、そして過酸化水素レベルが50ppm以下となるまでこの範囲に維持され、および前記方法はいかなる相修飾溶媒を本質的に用いないことを特徴とする方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (23件):
4H003AB31
, 4H003AC08
, 4H003AC15
, 4H003BA12
, 4H003DA17
, 4H003EB04
, 4H003EB07
, 4H003EB08
, 4H003EB13
, 4H003EB22
, 4H003EB28
, 4H003EC01
, 4H003EC02
, 4H003ED02
, 4H003FA01
, 4H003FA02
, 4H003FA26
, 4H003FA27
, 4H006AA02
, 4H006AA03
, 4H006AC59
, 4H006BC10
, 4H006BE32
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特開昭60-120848
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ニトロソアミンの生成抑制法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-014716
出願人:アルブライト・エンド・ウィルソン・リミテッド
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