特許
J-GLOBAL ID:200903086478028021
熱的に広い範囲にわたって安定であり、且つ良好なプロトン伝導率を有するプロトン導体
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
社本 一夫 (外5名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-509370
公開番号(公開出願番号):特表2000-517462
出願日: 1997年08月07日
公開日(公表日): 2000年12月26日
要約:
【要約】熱的に広い範囲にわたって安定であり、且つ良好なプロトン伝導率を有するプロトン導体。1乃至99重量%の酸と、99乃至1重量%の非水性両性材料とを含有してなり、且つ-50°C乃至400°Cにおいて熱的に安定であり、そして10-5S/cm以上のプロトン伝導率を有するプロトン導体。本発明は、さらに本発明のプロトン導体を含有してなる膜、該膜を製造する方法ならびにエレクトロクロミックセル、二次電池およびエレクトロクロミックディスプレイにおける該膜の使用に関する。
請求項(抜粋):
酸と非水性両性材料とを含有してなり、前記酸は1乃至99重量%の量で存在し、前記両性材料は99乃至1重量%の量で存在し、且つ400°Cまでの温度範囲において熱的に安定であることを特徴とするプロトン導体。
IPC (5件):
H01B 1/06
, C08J 7/06
, G02F 1/15
, H01M 8/02
, H01M 10/40
FI (5件):
H01B 1/06 A
, C08J 7/06 Z
, G02F 1/15
, H01M 8/02 P
, H01M 10/40 B
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