特許
J-GLOBAL ID：200903086482585172
パターン比較検証装置、パターン比較検証方法およびパターン比較検証プログラムを記録した媒体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-338450
公開番号（公開出願番号）：特開平10-177589
出願日： 1996年12月18日
公開日（公表日）： 1998年06月30日
要約：
【要約】【課題】 マスク品質上問題とならないわずかな差と、マスク品質上問題となる差とを自動判定可能なパターン比較検証装置を提供すること。【解決手段】 パターン比較検証装置は、パターンデータを画素領域で分割し、分割されたパターンデータの画素領域に対する占有率を計算するための占有率計算部23と、分割されたパターンデータの占有率に基づいてグレイレベルビットマップを作成するためのグレイレベルビットマップ作成部24と、占有率計算部23とグレイレベルビットマップ作成部24とによって作成された設計パターンデータのグレイレベルビットマップと電子ビーム描画装置用パターンデータのグレイレベルビットマップとを比較し、設計パターンデータと電子ビーム描画装置用パターンデータとが一致するか否かを判定するためのビットマップ比較部27とを含む。
請求項（抜粋）：
パターンデータを画素領域で分割し、該分割されたパターンデータの前記画素領域に対する占有率を計算するための占有率計算手段と、前記分割されたパターンデータの占有率に基づいてグレイレベルビットマップを作成するためのグレイレベルビットマップ作成手段と、前記占有率計算手段と前記グレイレベルビットマップ作成手段とによって作成された設計パターンデータのグレイレベルビットマップと電子ビーム描画装置用パターンデータのグレイレベルビットマップとを比較し、前記設計パターンデータと前記電子ビーム描画装置用パターンデータとが一致するか否かを判定するためのビットマップ比較手段とを含むパターン比較検証装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G06F 15/60 666 C
, H01L 21/30 502 V
, H01L 21/30 541 E
