特許

J-GLOBAL ID：200903086489753232

吸着式ガス発生装置

発明者： 河合 正毅
出願人/特許権者： トキコ株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-060723
公開番号（公開出願番号）：特開平5-261234
出願日： 1992年03月17日
公開日（公表日）： 1993年10月12日
要約：

【要約】【構成】 本願発明は、所定のガス成分を吸着する吸着材24が封入された吸着槽32を具備し、加圧した空気を吸着槽32内に導入し、吸着材24により空気分子篩を行い所定のガス分子を取り出す吸着式ガス発生装置において、吸着槽32内の側壁34に内方へ突出する複数の仕切壁35a,36a,...を設け、仕切壁35a,36a,...は隣接する仕切壁35a,36aのそれぞれの突出する方向が互いに異なることを特徴とする。また、前記仕切壁間の側壁34に吸着材24を封入するための封入口41a,41b,...を設けてもよい。【効果】 設置状態に拘わりなく吸着状態を良好に保持することができ、導入された空気を吸着材と十分に接触させることができ、従来の様に接触しないままに外方へ取り出されることがなくなる。したがって、純度の高いガス分子を取り出すことができる。

請求項（抜粋）：

所定のガス成分を吸着する吸着材が封入された吸着槽を具備し、加圧した空気を前記吸着槽内に導入し、前記吸着材により空気分子篩を行い所定のガス分子を取り出す吸着式ガス発生装置において、前記吸着槽内の側壁に、該側壁から内方へ突出する複数の仕切壁を設け、これらの仕切壁は、隣接する仕切壁のそれぞれの突出する方向が互いに異なることを特徴とする吸着式ガス発生装置。