特許
J-GLOBAL ID：200903086500564455
高分子光導波路の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梅田 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-116646
公開番号（公開出願番号）：特開平10-307226
出願日： 1997年05月07日
公開日（公表日）： 1998年11月17日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、高分子クラッド基板の溝部内部壁面の凹凸を平滑化し、コア部の側壁部の凹凸構造の発生を防止することによって、導波光の透過特性に優れた高分子光導波路を実現することが可能な高分子光導波路の製造方法を提供することを目的としている。【解決手段】 高分子クラッド基板5表面に形成された溝部の中に、硬化させると高分子クラッド基板5より屈折率が高くなるコア材料をモノマー状態で注入した後、モノマー状態のコア材料を硬化させる高分子光導波路の製造方法において、高分子クラッド基板4表面の溝部の内部壁面にコーティング層8を形成した後に、モノマー状態のコア材料を注入することとする。
請求項（抜粋）：
高分子クラッド基板表面に形成された溝部の中に、硬化させると前記高分子クラッド基板より屈折率が高くなるコア材料をモノマー状態で注入した後、該モノマー状態のコア材料を硬化させる高分子光導波路の製造方法において、前記高分子クラッド基板表面の溝部の内部壁面にコーティング層を形成した後に、前記モノマー状態のコア材料を注入することを特徴とする高分子光導波路の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 M
, G02B 6/12 N
