特許

J-GLOBAL ID：200903086502164322

スクリーンマスク

発明者： 鈴木 利儀 ,  溝畑 忠
出願人/特許権者： 双葉電子工業株式会社
代理人 (1件)： 西村 教光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-057578
公開番号（公開出願番号）：特開平8-252987
出願日： 1995年03月16日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：

【要約】【目的】一回のスキージ操作でピンホールのない均一なペースト層を形成できるスクリーンマスクを提供する。【構成】スクリーンマスク1は矩形の枠体2の下面に2枚のメッシュ部材3,4 を張ってなる。被印刷面である陽極基板102側の第1メッシュ部材3は、目が粗い。線径50μm、開口267 μm、開口率70%である。スキージ面側の第2メッシュ部材4は、目が細かい。線径30μm、開口97μm、開口率58%である。ペーストを陽極基板102 上に印刷する。陽極基板102 に接する第1メッシュ部材3は目が荒いので、スキージされたペーストが回り込みにくい陽極基板102 に対する接触点が少ない。メッシュ部材が2重であり、スクリーンマスク1内に保持できるペーストの量が多く、第1メッシュ部材3と陽極基板102 との接触部分に十分な量のペーストを供給できるとができ、ワイヤーの目の跡が残りにくい。ピンホールのない均一なペースト層を形成できる。

請求項（抜粋）：

スキージされたペーストを被印刷面に移行させるスクリーンマスクにおいて、被印刷面に接する第1のメッシュ部材と、前記第1のメッシュ部材の上面に設けられた前記第1のメッシュ部材より目の細かい第2のメッシュ部材とを有するスクリーンマスク。

IPC (3件)：

B41N 1/24 ,  B41F 15/34 ,  G03F 7/12

FI (3件)：

B41N 1/24 ,  B41F 15/34 ,  G03F 7/12

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 二重構造スクリーン版
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-226166   出願人：アサヒテック株式会社
• 特開平4-025495