特許

J-GLOBAL ID：200903086512077410

周辺露光装置

発明者： 加茂野 隆
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-040616
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217885
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：

【要約】【目的】 ファイバー移動による塵埃や異物発生の問題をなくしかつ露光境界部の現像レジスト断面の傾斜を鋭くした周辺露光装置を提供する。【構成】 レジスト2を塗布したウエハ1を露光するための光学系と該光学系内に組み込まれた絞り3bとを具備し、前記光学系の光射出端部とウエハとの間にウエハ搬送に必要な間隔を設けかつ絞りとウエハのレジスト塗布面とが共役の関係になるように光学系を配置し、前記絞りの形状は直線部分を有し、この直線部分側をウエハの中心側に向けて配置して絞りの直線部分の像をウエハ周辺部側の露光領域とウエハ内部側の非露光領域の境界上に形成した。

請求項（抜粋）：

レジストを塗布したウエハを露光するための光学系と該光学系内に組み込まれた絞りとを具備し、前記光学系の光射出端部とウエハとの間にウエハ搬送に必要な間隔を設けかつ絞りとウエハのレジスト塗布面とが共役の関係になるように光学系を配置し、前記絞りの形状は直線部分を有し、この直線部分側をウエハの中心側に向けて配置し、絞りの直線部分の像をウエハ周辺部側の露光領域とウエハ内部側の非露光領域の境界上に形成したことを特徴とする周辺露光装置。