特許
J-GLOBAL ID：200903086516731513
蛍光X線分析におけるバイアス修正方法とその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉本 修司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-239025
公開番号（公開出願番号）：特開平7-063712
出願日： 1993年08月30日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：
【要約】【目的】 測定対象試料の元素含有量を簡単かつ正確に行えるバイアス修正方法と装置とを提供する。【構成】 組成が既知の標準試料について検量線を作成する。また、測定対象である分析試料の1つ又は複数からなる基準試料について化学分析のような蛍光X線分析以外の分析方法によって元素含有量Wc1 ,Wc2 を求める。他方、基準試料について蛍光X線強度を測定するとともに、この蛍光X線強度から検量線に基づき元素含有量W1 ,W2 を求め、求めた含有量W1 ,W2 と、化学分析によって求めた元素含有量Wc1 ,Wc2 との差によりバイアス修正量ΔWを算出する。そして、分析試料について蛍光X線強度Iを測定し、その蛍光X線強度Iから検量線に基づき得られた元素含有量Wを、バイアス修正量ΔWによって修正して、修正済元素含有量Wcを得る。
請求項（抜粋）：
特定の元素の含有量が既知の基準試料について蛍光X線の強度を測定し、この測定した強度から、標準試料の測定データによって得られた検量線に基づいて元素の含有量を求め、求めた含有量と上記既知の含有量との差に基づいてバイアス修正量を算出し、測定対象である分析試料について測定した蛍光X線の強度から上記検量線に基づいて得た元素の含有量を、上記修正量によって修正する蛍光X線分析におけるバイアス修正方法。
引用特許：
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