特許
J-GLOBAL ID:200903086517088029
エピタキシャル蛍光体薄膜及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
平山 一幸 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-190271
公開番号(公開出願番号):特開2003-003159
出願日: 2001年06月22日
公開日(公表日): 2003年01月08日
要約:
【要約】【課題】 色純度、輝度、寿命に優れたM<SB>x </SB>N<SB>1-x </SB>HfO<SB>3 </SB>:Tm<SP>+3</SP>(M,N=アルカリ土類金属元素)青色蛍光体薄膜を提供する。【解決手段】 SrTiO<SB>3 </SB>単結晶基板と、この単結晶基板上にエピタキシャル成長した、成分組成、Ca<SB>x </SB>Ba<SB>1-x </SB>HfO<SB>3 </SB>:Tm<SP>+3</SP>(ただし、0<x≦1)、Ca<SB>x </SB>Sr<SB>1-x </SB>HfO<SB>3 </SB>:Tm<SP>+3</SP>(ただし、0≦x<1)、または、Sr<SB>x </SB>Ba<SB>1-x </SB>HfO<SB>3 </SB>:Tm<SP>+3</SP>(ただし、0<x≦1)で表わされるエピタキシャル蛍光体薄膜であり、青色(457nm)発光する。
請求項(抜粋):
単結晶基板と、この単結晶基板上にエピタキシャル成長した蛍光体薄膜とからなることを特徴とする、エピタキシャル蛍光体薄膜。
IPC (2件):
C09K 11/00
, C09K 11/67 CPQ
FI (2件):
C09K 11/00 A
, C09K 11/67 CPQ
Fターム (6件):
4H001XA08
, 4H001XA20
, 4H001XA38
, 4H001XA56
, 4H001XA72
, 4H001YA69
引用特許:
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