特許
J-GLOBAL ID：200903086530330637

液体の高さおよび幅の測定方法および装置

発明者：
生島 和正

生島 和正 について


出願人/特許権者：
武蔵エンジニアリング株式会社

武蔵エンジニアリング株式会社 について


代理人 (1件)： 須藤 阿佐子 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-213762
公開番号（公開出願番号）：特開2003-028616
出願日： 2001年07月13日
公開日（公表日）： 2003年01月29日
要約：
【要約】【課題】 塗布描画形状の塗布高さ、塗布幅を高速に測定すること。【解決手段】 帯状光が、板状のワーク上に塗布形成された塗布描画線の長さ方向の塗布外郭線両端を、前記塗布描画線の長さ方向に対し所望の角度で横截して前記塗布描画線表面に形成する輝線形状の画像情報を画像処理して塗布高さを求める液体の高さ測定において、少なくとも二本以上の帯状光発生手段のうち一の帯状光発生手段により輝線を形成させる方法と装置。塗布描画線の描画方向に応じて、輝線を形成する帯状光発生手段を切換える、好ましくは帯状光遮光手段により切換える。線状液体の始点から終点までの表面を輝線で順次連続的に横截して所望する位置を計測する。描画形成された塗布描画線の長さ方向の二の塗布外郭線と、帯状光が前記二の塗布外郭線を前記塗布描画線の長さ方向に対して所望する角度で横截して形成する前記塗布描画線表面の輝線とを同時に含む一の画像情報から塗布幅および塗布高を測定する。
請求項（抜粋）：
帯状光が、板状のワーク上に塗布形成された塗布描画線の長さ方向の塗布外郭線両端を、前記塗布描画線の長さ方向に対し所望の角度で横截して前記塗布描画線表面に形成する輝線形状の画像情報を画像処理して塗布高さを求める液体の高さ測定方法において、少なくとも二本以上の帯状光発生手段のうち一の帯状光発生手段により輝線を形成させることを特徴とする液体の高さ測定方法。
IPC (3件)：
G01B 11/02 ,  B05C 11/00 ,  B05D 3/00
FI (3件)：
G01B 11/02 H ,  B05C 11/00 ,  B05D 3/00 D
Fターム (23件)：
2F065AA24 ,  2F065CC31 ,  2F065DD06 ,  2F065FF04 ,  2F065FF09 ,  2F065GG04 ,  2F065HH05 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL30 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ31 ,  2F065TT02 ,  2F065UU01 ,  2F065UU05 ,  4D075BB92Z ,  4D075CA48 ,  4F042AA01 ,  4F042BA22 ,  4F042BA25 ,  4F042BA27 ,  4F042DH09
引用特許：
審査官引用 (5件)
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