特許

J-GLOBAL ID：200903086535324295

処理液供給方法及びその装置

発明者： 真田 雅和
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-013032
公開番号（公開出願番号）：特開平10-209022
出願日： 1997年01月28日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：

【要約】【課題】 処理液の吐出が停止されたことに基づいて処理プログラムの命令を実行することにより、処理プログラムにより意図した処理を長期間にわたって正確に施すことができる。【解決手段】 供給開始命令および供給停止命令を含む複数個の命令からなり、予め記憶されている一連の処理を規定する処理プログラムに基づいて、供給開始命令を実行することにより基板の中心付近に処理液の供給を開始し、一定量の処理液を供給した時点で、供給停止命令を実行することにより処理液の供給を停止する処理液供給方法において、供給停止命令をTE 時点で実行した後、処理液の吐出が停止されたことを示す吐出停止信号が出力(時点t1 )されてから、それ以後の処理プログラムの命令を実行する。

請求項（抜粋）：

供給開始命令および供給停止命令を含む複数個の命令からなり、予め記憶されている一連の処理を規定する処理プログラムに基づいて、前記供給開始命令を実行することにより基板の中心付近に処理液の供給を開始し、一定量の処理液を供給した時点で、前記供給停止命令を実行することにより処理液の供給を停止する処理液供給方法において、前記供給停止命令が実行された後、処理液の吐出が停止されたことに基づいて、それ以後の処理プログラムの命令を実行することを特徴とする処理液供給方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  H01L 21/02

FI (5件)：

H01L 21/30 564 D ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/30 569 C

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-114683
  
• 特開2050-193252