特許
J-GLOBAL ID:200903086556068345

排ガスを利用した植物育成用CO2供給装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 西川 惠清 ,  森 厚夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-042840
公開番号(公開出願番号):特開2008-201649
出願日: 2007年02月22日
公開日(公表日): 2008年09月04日
要約:
【課題】排ガス中の有害物質の濃度を低減させると共に排ガスの温度を使用に適した温度として、CO2を含む排ガスを育成する植物に供給するにあたり、触媒層を均一に加熱して排ガスを効率良く浄化することができる排ガスを利用した植物育成用CO2供給装置を提供する。【解決手段】内燃機関11又は燃焼装置12から排出される排ガスの流路3の少なくとも一部を上流側が下側となり下流側が上側となる縦型流路31とし、前記縦型流路31に下側より順に酸化触媒層5と熱交換器7とを設けた。【選択図】図1
請求項(抜粋):
内燃機関又は燃焼装置から排出される排ガスの流路の少なくとも一部を上流側が下側となり下流側が上側となる縦型流路とし、前記縦型流路に下側より順に酸化触媒層と熱交換器とを設けて成ることを特徴とする排ガスを利用した植物育成用CO2供給装置。
IPC (2件):
C01B 31/20 ,  F01N 3/24
FI (3件):
C01B31/20 B ,  F01N3/24 A ,  F01N3/24 L
Fターム (11件):
3G091AB02 ,  3G091AB09 ,  3G091BA14 ,  3G091BA15 ,  3G091BA19 ,  3G091CA07 ,  4G146JA02 ,  4G146JB09 ,  4G146JC05 ,  4G146JC21 ,  4G146JD10
引用特許:
出願人引用 (1件)

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