特許
J-GLOBAL ID:200903086562409995

投影露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大森 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-037232
公開番号(公開出願番号):特開平5-206004
出願日: 1992年01月28日
公開日(公表日): 1993年08月13日
要約:
【要約】【目的】 アライメント光に対する色収差を補正するための光学部材の露光光による損傷を防止する。【構成】 投影光学系19中に配置され、アライメント光を偏向させることによりそのアライメント光の下でその投影光学系19に関してレチクルパターン18とウェハ22の上面とを共役にする回折格子21a,21bと、露光光Ls用の照明光学系中のそれら回折格子21a,21bと共役な位置に配置されてその露光光Lsを遮光する遮光部材13a,13bとを有する。
請求項(抜粋):
マスクパターンを露光用の第1の照明光で照明する第1の照明光学系と、該第1の照明光の下で前記マスクパターンの像を基板上に露光する投影光学系と、前記第1の照明光とは波長帯の異なる第2の照明光で前記マスクパターン又は前記基板を照明する第2の照明光学系と、前記投影光学系中に配置され、前記第2の照明光を偏向させることにより前記第2の照明光の下で前記投影光学系に関して前記マスクパターンの配置面と前記基板の上面とを共役にする1個又は複数個の偏向部材と、前記第1の照明光学系中の前記偏向部材と共役な位置に配置されて前記第1の照明光を遮光する1個又は複数個の遮光部材とを有する事を特徴とする投影露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (2件):
H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 311 S

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