特許
J-GLOBAL ID:200903086565341526

光学フィルム、偏光板、光学フィルムロ-ル、光学フィルムを用いた表示装置、光学フィルムの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-044342
公開番号(公開出願番号):特開2003-240955
出願日: 2002年02月21日
公開日(公表日): 2003年08月27日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 波長が長い程、位相差も大きくなる特性を持ち、かつ、良好な高温高湿耐性を兼ね備えた光学フィルム及び生産性に優れた製造方法を提供すること。【解決手段】 炭素数2〜4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をAとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をBとしたとき、下記(I)式及び(II)式を同時に満たすセルロ-スエステルを含有する光学フィルムであって、更に、波長590nmにおける遅相軸方向の屈折率Nx及び進相軸方向の屈折率Nyが下記(III)式を満たしかつ面内のレタデーションR<SB>0</SB>が30nm以上200nm以下であることを特徴とする光学フィルム。(I) 2.0≦A+B≦3.0(II) A<2.4(III)0.0005≦Nx-Ny≦0.0050
請求項(抜粋):
炭素数2〜4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をAとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をBとしたとき、下記(I)式及び(II)式を同時に満たすセルロ-スエステルを含有する光学フィルムであって、更に、波長590nmにおける面内の遅相軸方向の屈折率Nx及び進相軸方向の屈折率Nyが下記(III)式を満たしかつ面内のレタデーションR<SB>0</SB>が30nm以上200nm以下であることを特徴とする光学フィルム。(I) 2.0≦A+B≦3.0(II) A<2.4(III)0.0005≦Nx-Ny≦0.0050
IPC (8件):
G02B 5/30 ,  B29C 55/02 ,  C08J 5/18 CEP ,  G02F 1/13363 ,  B29K 67:00 ,  B29L 7:00 ,  B29L 11:00 ,  C08L 1:10
FI (8件):
G02B 5/30 ,  B29C 55/02 ,  C08J 5/18 CEP ,  G02F 1/13363 ,  B29K 67:00 ,  B29L 7:00 ,  B29L 11:00 ,  C08L 1:10
Fターム (43件):
2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA07 ,  2H049BA42 ,  2H049BB02 ,  2H049BB13 ,  2H049BB49 ,  2H049BC22 ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FB02 ,  2H091HA06 ,  2H091HA07 ,  2H091HA09 ,  2H091KA01 ,  2H091KA02 ,  2H091KA10 ,  2H091LA16 ,  2H091LA17 ,  4F071AA09 ,  4F071AE05 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F210AA24 ,  4F210AB14 ,  4F210AC03 ,  4F210AE10 ,  4F210AG01 ,  4F210AH73 ,  4F210AR12 ,  4F210AR20 ,  4F210QA02 ,  4F210QC07 ,  4F210QD01 ,  4F210QD13 ,  4F210QG01 ,  4F210QG18 ,  4F210QL02 ,  4F210QW15 ,  4F210QW17
引用特許:
審査官引用 (17件)
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