特許
J-GLOBAL ID:200903086573633927

着色低抵抗膜形成用塗布液、着色低抵抗膜、及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 泉名 謙治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-069709
公開番号(公開出願番号):特開平7-281004
出願日: 1994年04月07日
公開日(公表日): 1995年10月27日
要約:
【要約】【構成】1次粒径10〜100nmのカーボンブラックを含み、さらにはSn、In、Sb、Zn、Al、Ti、Si及びGaの群から選ばれる少なくとも1種の元素の化合物を含む、着色低抵抗膜形成用塗布液。【効果】従来技術ではなし得なかった高品位の着色及び帯電防止のみならず電磁波シールド領域もカバーし得る低抵抗性を膜に付与し得る。
請求項(抜粋):
1次粒径10〜100nmのカーボンブラックを含むことを特徴とする着色低抵抗膜形成用塗布液。
IPC (2件):
G02B 1/10 ,  G02B 1/11
FI (2件):
G02B 1/10 ,  G02B 1/10 A

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