特許

J-GLOBAL ID：200903086574227086

ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 加藤 宏昭
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-147187
公開番号（公開出願番号）：特開2001-332467
出願日： 2000年05月19日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
要約：

【要約】【課題】 XYステージを載せた除振台の制振性能を向上させる。【解決手段】 除振台1はダンパである空気ばね8a〜8dによって支持され、XYステージ2の除振台1上の位置はコントローラ10によって制御される。XYステージ2の位置情報を空気ばね制御系にフィードフォワード入力するとともに、XYステージ2の位置情報にローカット補償を施した指令値によってリニアモータ9a〜9dを駆動することで、空気ばね8a〜8dの応答性が低い点を補う。

請求項（抜粋）：

台盤と、該台盤上で移動するステージと、前記台盤上の前記ステージの位置を制御するステージ制御系と、前記台盤を支持する空気ばねおよびリニアモータを有する除振装置と、前記台盤の位置と姿勢を保つために前記空気ばねを制御する空気ばね制御系と、前記ステージの位置情報に基づく第1の補償値を前記空気ばね制御系に入力する自重補償手段と、前記ステージの位置情報にローカット補償を施した第2の補償値に基づいて前記リニアモータを制御するリニアモータ制御系を有するステージ装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  F16F 15/02 ,  F16F 15/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G12B 5/00 ,  H01L 21/68

FI (7件)：

F16F 15/02 A ,  F16F 15/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G12B 5/00 T ,  H01L 21/68 K ,  H01L 21/30 503 F ,  H01L 21/30 503 B

Fターム (29件)：

2F078CA02 ,  2F078CA08 ,  2F078CB05 ,  2F078CB13 ,  2F078CC11 ,  3J048AB08 ,  3J048AB11 ,  3J048AD02 ,  3J048BE02 ,  3J048DA01 ,  3J048EA07 ,  3J048EA13 ,  5F031CA02 ,  5F031HA55 ,  5F031HA58 ,  5F031JA01 ,  5F031JA02 ,  5F031JA08 ,  5F031JA30 ,  5F031JA47 ,  5F031LA08 ,  5F031MA27 ,  5F046AA23 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC16 ,  5F046DA07 ,  5F046DB14 ,  5F046DC14