ポリッシング装置のトップリング真空吸着装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：熊谷隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-280492
公開番号（公開出願番号）：特開平6-106474
出願日： 1992年09月25日
公開日（公表日）： 1994年04月19日
要約：

【要約】【目的】研磨砥液若しくは洗浄水等で真空ラインを詰まらせたり、真空排出部が水びたしになるということのないポリッシング装置のトップリング真空吸着装置を提供すること。【構成】各々独立した回転数で回転するターンテーブルとトップリング本体3を有し、且つ該トップリング本体3が摺動しながら一定の圧力を前記ターンテーブルに与える手段を有し、該ターンテーブルと該トップリング本体3の間にポリッシング対象物6を介在させて該ポリッシング対象物6の表面を研磨し平坦且つ鏡面化するポリッシング装置において、トップリング本体3にその先端が該トップリング本体3の下面に開口し且つ真空源に連通する多数の細かい孔を設け、ポリッシング対象物6を該トップリング本体3の下面に真空吸着する真空吸着機構の真空源に連通する真空配管中にドレンポット12を設けた。

請求項（抜粋）：

各々独立した回転数で回転するターンテーブルとトップリング本体を有し、且つ該トップリング本体が一定の圧力を前記ターンテーブルに与える手段を有し、該ターンテーブルと該トップリング本体の間にポリッシング対象物を介在させて該ポリッシング対象物の表面を研磨し平坦且つ鏡面化するポリッシング装置において、前記トップリング本体にその先端が該トップリング下面に開口し且つ真空源に連通する多数の細かい孔を設けポリッシング対象物を該トップリング下面に真空吸着する真空吸着機構中にドレンポットを設けたことを特徴とするポリッシング装置のトップリング真空吸着装置。

IPC (3件)：

B24B 37/04 , B23Q 3/08 , H01L 21/304 321

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開平2-218532
特開平1-287569
特開平4-150911

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審査官引用 (6件)

特開平2-218532
特開平1-287569
特開平4-150911

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