特許

J-GLOBAL ID：200903086577956755

レジストパターン形成方法

発明者： 池谷 晋一 ,  金谷 大介 ,  小寺 孝兵
出願人/特許権者： 松下電工株式会社
代理人 (1件)： 松本 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-068406
公開番号（公開出願番号）：特開平5-273764
出願日： 1992年03月26日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 厚膜系レジストパターン形成の際の露光量、現像時間に対する許容量が大きくて、しかも、パターニングが施されたレジストの断面形状の矩形性に優れるレジストパターン形成方法を提供する。【構成】 ノボラック系樹脂-ナフトキノンジアジド系感光剤の配合割合と現像液として用いるアルカリ水溶液の濃度から得られる現像可能な領域を示す可使範囲図を予め作成しておき、この可使範囲図において、レジスト組成のノボラック系樹脂-ナフトキノンジアジド系感光剤配合割合における感光剤の配合割合の最大値をXmax、最小値をXminとし、現像液となるアルカリ水溶液の濃度の最大値をYmax、最小値をYminとしたとき、上記可使範囲図の外郭線で囲まれる領域内において、下式を満足するXなる感光剤割合のレジストと、Yなる濃度のアルカリ水溶液を選んで、これらを使用するようにする。(式)X≦(Xmax+Xmin)/2Y≦(Ymax+Ymin)/2

請求項（抜粋）：

ノボラック系樹脂-ナフトキノンジアジド系感光剤からなるポジ型レジストを用いてレジストパターン形成を行う方法において、ノボラック系樹脂-ナフトキノンジアジド系感光剤の配合割合と現像液として用いるアルカリ水溶液の濃度から得られる現像可能な領域を示す可使範囲図を予め作成しておき、この可使範囲図において、レジスト組成のノボラック系樹脂-ナフトキノンジアジド系感光剤配合割合における感光剤の配合割合の最大値をXmax 、最小値をXmin とし、現像液となるアルカリ水溶液の濃度の最大値をYmax 、最小値をYmin としたとき、上記可使範囲図の外郭線で囲まれる領域内において、下式を満足するXなる感光剤割合のレジストと、Yなる濃度のアルカリ水溶液を選んで、これらを使用するようにすることを特徴とするレジストパターン形成方法。X≦(Xmax +Xmin )/2Y≦(Ymax +Ymin )/2

IPC (4件)：

G03F 7/30 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/06