特許
J-GLOBAL ID：200903086579770829
含シリカ物質を処理する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-502489
公開番号（公開出願番号）：特表平10-502899
出願日： 1995年06月16日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：
【要約】含シリカ物質を処理する方法(10)は、或る反応帯域(11)の中に熱い還元性雰囲気を維持し、そして或る固体の粒状含シリカ物質をその反応帯域を通して非支持的態様で通過させることを含む。この物質は加熱され、そしてこれがこの帯域(11)を通過するときに反応してそれにより、珪素富化フラクション(ライン16)と、珪素欠乏フラクション(ライン18)とが作り出される。
請求項（抜粋）：
含シリカ物質を処理する方法において、 或る反応帯域の中で熱い還元性雰囲気を維持し、 この反応帯域を通して、粒状の含シリカ固体物質を非支持的態様で通過させ、 この物質を加熱してこれが上記の帯域を通過するときに反応することを許容し、それにより珪素富化フラクションと珪素欠乏フラクションとを作り出すことを含む上記方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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