特許

J-GLOBAL ID：200903086582279486

画像形成装置および画像形成方法

発明者： 福島 聡
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 世良 和信 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-394318
公開番号（公開出願番号）：特開2003-195579
出願日： 2001年12月26日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：

【要約】【課題】 レーザービーム光学系に係わる温度およびレーザービーム射出部の温度の変化によらず、安定した画像形成を可能とする品質性に優れた画像形成装置および画像形成方法を提供する。【解決手段】 半導体レーザー501及びコリメータレンズ502近傍の温度をそれぞれ検知し、各検知温度の温度差に基づいて、1次帯電器に印加するグリッドバイアス電圧値(帯電バイアス)および、現像器内の現像スリーブに印加する現像バイアス値を制御して、現像コントラスト電圧(以下Vcont)を所望の値に維持してダーク部の濃度変化を防止し、またかぶり取り電圧(以下Vback)を変化させて現像性を向上することにより、ハイライト部の再現性を維持している。

請求項（抜粋）：

像担持体の表面上を一様に帯電する帯電手段と、該帯電手段によって一様に帯電された像担持体の表面上にレーザービームを照射して潜像を形成するレーザービーム走査光学系と、該レーザービーム走査光学系によって形成された潜像を現像化する現像手段と、を備えた画像形成装置において、前記レーザービーム走査光学系に係わる温度を検知する第1温度検知手段と、前記レーザービーム走査光学系によるレーザービーム射出部の温度を検知する第2温度検知手段と、を設けると共に、これら第1温度検知手段および第2温度検知手段によって検知される各温度に基づいて、前記帯電手段の帯電条件及び前記現像手段の現像条件のうちの少なくともいずれか一方の変更制御を行うことを特徴とする画像形成装置。

IPC (6件)：

G03G 15/00 303 ,  B41J 2/44 ,  G03G 15/02 102 ,  G03G 15/04 111 ,  G03G 15/06 101 ,  H04N 1/29

FI (6件)：

G03G 15/00 303 ,  G03G 15/02 102 ,  G03G 15/04 111 ,  G03G 15/06 101 ,  H04N 1/29 G ,  B41J 3/00 D

Fターム (44件)：

2C362AA03 ,  2C362AA60 ,  2C362CB80 ,  2H027DA11 ,  2H027DA13 ,  2H027DA14 ,  2H027DA38 ,  2H027EA01 ,  2H027EA05 ,  2H027EB04 ,  2H027EC06 ,  2H027EC20 ,  2H027EF06 ,  2H073AA02 ,  2H073AA03 ,  2H073BA01 ,  2H073BA22 ,  2H073BA33 ,  2H073CA22 ,  2H076AB05 ,  2H076AB61 ,  2H076EA01 ,  2H200FA01 ,  2H200FA16 ,  2H200GA12 ,  2H200GA34 ,  2H200GA40 ,  2H200GA56 ,  2H200HA12 ,  2H200HA29 ,  2H200NA02 ,  2H200PA02 ,  2H200PA18 ,  2H200PA19 ,  2H200PA22 ,  2H200PB01 ,  2H200PB27 ,  2H200PB28 ,  5C074AA20 ,  5C074CC26 ,  5C074DD09 ,  5C074DD26 ,  5C074EE02 ,  5C074EE03