特許

J-GLOBAL ID：200903086599915564

描画装置及び描画方法

発明者： 奥貫 昌彦
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 大塚 康徳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-235181
公開番号（公開出願番号）：特開2003-045789
出願日： 2001年08月02日
公開日（公表日）： 2003年02月14日
要約：

【要約】【課題】相応のスループット性能を維持しながらパターンの繋ぎ精度を向上させうる描画装置を提供する。【解決手段】複数の荷電ビームによってウエハにパターンを描画する描画装置のマルチレンズとして、仮想的な格子を構成する水平方向の線X1,X2,X3と垂直方向の線Y1,Y2,Y3との交点(格子点)を軸とする電子レンズ(レンズ開口9a〜9i)と、該仮想的な格子を構成する各四角形の中心を軸とする電子レンズ(レンズ開口9j〜9m)とを配置したマルチレンズ1を用いる。

請求項（抜粋）：

複数の荷電ビームにより試料にパターンを描画する描画装置であって、仮想的な格子上の複数の格子点及び該格子を構成する複数の四角形のそれぞれの中心をそれぞれ軸とする複数の荷電ビームを生成するビーム生成器を備えることを特徴とする描画装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/12 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305

FI (7件)：

G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/12 ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 W ,  H01L 21/30 541 J

Fターム (15件)：

2H097AA03 ,  2H097BA10 ,  2H097CA16 ,  2H097EA01 ,  2H097LA10 ,  5C033CC02 ,  5C033CC06 ,  5C033GG03 ,  5C034BB02 ,  5C034BB04 ,  5F056AA33 ,  5F056CC13 ,  5F056CD16 ,  5F056DA22 ,  5F056EA05