特許

J-GLOBAL ID：200903086608987115

レーザ露光装置

発明者： 古川 弘司 ,  笹山 洋行
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-232745
公開番号（公開出願番号）：特開2001-056568
出願日： 1999年08月19日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
要約：

【要約】【課題】 感光材料をレーザ光によってアブレーションさせることで露光するレーザ露光装置において、アブレーションにより発生するガス状粒子によって集光レンズが汚染されることがないレーザ露光装置を提供すること。【解決手段】 レーザ光Lを射出するレーザ光源2と集光レンズ3とを備えてなり、レーザ光源2から射出されたレーザ光Lを集光レンズ2によって集光させて感光材料上の目標点Pを露光するレーザ露光装置1である。このレーザ露光装置1は、レーザ光Lが目標点Pに対して斜めに入射することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

レーザ光を射出するレーザ光源と集光レンズとを備えてなり、前記レーザ光源から射出された前記レーザ光を前記集光レンズによって集光させて感光材料上の目標点を露光するレーザ露光装置において、前記レーザ光が前記目標点に対して斜めに入射することを特徴とするレーザ露光装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 511

FI (2件)：

G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 511

Fターム (6件)：

2H097AA03 ,  2H097AA16 ,  2H097AB08 ,  2H097BA04 ,  2H097CA17 ,  2H097LA03