特許
J-GLOBAL ID:200903086609146378
RDF製造システムにおける高水分ごみ系外排出装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岸本 瑛之助 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-196895
公開番号(公開出願番号):特開2001-019986
出願日: 1999年07月12日
公開日(公表日): 2001年01月23日
要約:
【要約】【課題】 乾燥機によるごみの乾燥が不十分となるシステム立上げ時やシステム停止時に、高水分ごみだけを系外に効率良く排出できるようにして、無駄なごみの排出を回避することにより、歩留まりを向上させる。【解決手段】 原料であるごみを圧縮成形前に乾燥させる乾燥機1を備えたRDF製造システムに、乾燥機1から出たごみの水分を測定する水分計2と、水分測定後のごみの経路を系内と系外とに切り替えるダンパ3と、水分計2から出力された水分測定データが設定値よりも低い場合にはごみの経路を系内に、設定値よりも高い場合にはごみの経路を系外に切り替えるようにダンパ3を制御するプログラムシーケンサ4とを備えてなる高水分ごみ系外排出装置を設ける。
請求項(抜粋):
原料であるごみを圧縮成形前に乾燥させる乾燥装置を備えたRDF製造システムにおいて、乾燥装置から出たごみの水分を測定する水分計と、水分測定後のごみの経路を系内と系外とに切り替えるダンパと、水分計から出力された水分測定データが設定値よりも低い場合にはごみの経路を系内に、設定値よりも高い場合にはごみの経路を系外に切り替えるようにダンパを制御する制御装置とを備えてなる、RDF製造システムにおける高水分ごみ系外排出装置。
IPC (2件):
C10L 5/46
, B09B 5/00 ZAB
FI (2件):
C10L 5/46
, B09B 5/00 ZAB M
Fターム (21件):
4D004AA46
, 4D004AB07
, 4D004BA03
, 4D004CA03
, 4D004CA04
, 4D004CA09
, 4D004CA14
, 4D004CA42
, 4D004CA45
, 4D004CA50
, 4D004CB13
, 4D004DA01
, 4D004DA02
, 4D004DA09
, 4H015AA01
, 4H015AB01
, 4H015BA09
, 4H015BA13
, 4H015BB05
, 4H015CA03
, 4H015CB01
引用特許:
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