ステージ装置およびそれを用いた波面収差測定装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-083147
公開番号（公開出願番号）：特開平10-281720
出願日： 1997年04月01日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：

【要約】【課題】測長干渉計を使用するステージ装置において、アッベ誤差に代表される測長誤差が解消できる低コストで、位置決め精度の高いステージ装置を提供する。【解決手段】移動ステージ1において、測長干渉計2および3を移動ステージ1上に設置し、測長干渉計2および3からの射出光を反射させる平面鏡5および7を移動ステージ外の固定部4および6にそれぞれ設置固定したステージ装置を構成する。そのステージ装置を用いてフィゾー面105の曲率中心位置、反射球面122の曲率中心位置を測定対象点とし、それらの測定対象点の空間座標を測定するテージ装置112および126を構成した波面収差測定装置により被検レンズ121の収差測定を行う。

請求項（抜粋）：

測長干渉計を移動ステージ上に設置し、前記測長干渉計からの射出光を反射させる反射部材を前記移動ステージ外の固定部に設置固定し、二次元または三次元移動方向の位置決め制御を行うことを特徴とするステージ装置。

引用特許：

審査官引用 (1件)

高精度座標測定器
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-325920 出願人：オリンパス光学工業株式会社

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