特許
J-GLOBAL ID：200903086611569537
吸湿加工剤
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-210385
公開番号（公開出願番号）：特開2001-040584
出願日： 1999年07月26日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、中空繊維の充填加工における問題点を解決し、加工反内、加工反間等での吸湿率レベルにバラツキがないように、且つ、大量生産に適用可能なプロセスで工業生産できる吸湿加工剤を提供すると共に、通常の繊維、フィルム、シート等の成形物に対して加工した場合にも優れた吸湿性及びその耐久性を安定して付与することができる吸湿加工剤を提供することにある。【解決手段】 前記の課題は、吸湿性モノマーとポリオキシエチレン系ポリエーテルとを主たる構成成分とし、ラジカル重合可能な官能基を持たないスルホン酸基を有する化合物を含み、水を媒体とする吸湿加工剤であって、該吸湿加工剤の曇点が60°C以上であることにより達成される。
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で示される吸湿性モノマーと、下記一般式(2)で示されるポリオキシエチレン系ポリエーテルとを主たる構成成分とし、ラジカル重合可能な官能基を持たないスルホン酸基を有する化合物を0.01〜10wt%含み、水を媒体とする吸湿加工剤であって、該吸湿加工剤の曇点が60°C以上であることを特徴とする吸湿加工剤。【化1】(式中、Xは水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基又はフェニル基、Yは水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基又は-COOM基、Zは水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基又は-CH2COOM基、Mは金属を示す)【化2】(式中、Aは1〜6の活性水素を有する分子量300以下の有機化合物残基、R1はエチレン基を主体とするアルキレン基、R2はアクリロイル基またはメタクリロイル基であり、一部は水素原子または低級アルキル基であってもよい。lは正の整数、kは1〜6の整数を示す)
IPC (5件)：
D06M 15/53
, C08K 5/42
, C08L 33/02
, C08L 33/14
, D06M 15/263
D06M 15/53
, C08K 5/42
, C08L 33/02
, C08L 33/14
, D06M 15/263
4J002CH021
, 4J002CH051
, 4J002EG036
, 4J002EG056
, 4J002EV257
, 4J002FD206
, 4J002FD207
, 4L033AC07
, 4L033AC15
, 4L033BA28
, 4L033CA18
, 4L033CA20
, 4L033CA48
, 4L033DA07
