水素ガス製造装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-096111
公開番号（公開出願番号）：特開平7-300301
出願日： 1994年05月10日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：

【要約】【構成】水とGaを29.8 °C以上100°C以下に保温しながら、機械的に撹拌することで、水素ガスを連続的に発生させることが可能であり、また撹拌速度により水素ガス生成量の制御及び還元ガスによるGaの再生を可能とする水素ガス製造装置。【効果】大気圧下、室温程度で液体Gaと水を接触させることにより、水素ガスを製造できるため、省スペース及びエネルギが可能である。

請求項（抜粋）：

容器内に水とガリウムを入れ、29.8 °C以上100°C以下に保温しながら撹拌装置により機械的に撹拌することにより水素ガスを得て、前記容器の上部に水素排出装置を有することを特徴とする水素ガス製造装置。

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