特許
J-GLOBAL ID：200903086619179789
薄膜製造装置用加熱装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木戸 一彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-296165
公開番号（公開出願番号）：特開平6-151322
出願日： 1992年11月05日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：
【要約】【目的】 特定の温度だけでなく、幅広い温度範囲で基板表面を均一に加熱することができる薄膜製造装置用加熱装置を提供する。【構成】 基板を加熱する発熱体4を、基板中心を中心とした内周側の発熱体パターン41と外周側の発熱体パターン42とに同心円状に分割して複数組設ける。
請求項（抜粋）：
加熱した基板の表面に薄膜を形成する薄膜製造装置における基板の加熱装置において、前記基板を加熱する発熱体を、基板中心を中心とした同心円状に分割して複数組設けたことを特徴とする薄膜製造装置用加熱装置。
IPC (2件)：
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