特許
J-GLOBAL ID：200903086623628679
感光性記録素子
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田代 烝治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-148468
公開番号（公開出願番号）：特開平5-011445
出願日： 1991年06月20日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、現像に先立って記録層(B)上の画像マスク(C)を化学線により均斉に露光させるだけで複写が行なわれる新規な感光性記録素子を提供することを目的とするものである。【構成】 本発明は、(A)寸法安定性基板、(B)ネガチブ処理感光性記録層(B1)もしくはポジチブ処理感光性記録層(B2)、および(C)上記感光性記録層(B1)もしくは(B2)の表面に直接載置され、いずれの場合にも、使用されるべき化学線に対して本質的に非透過性の被覆領域(C1)および非被覆領域(C2)のレリーフ様パターンを形成する画像マスクを有する、紫外帯域および可視帯域化学線に感応する記録素子であって、レリーフ様パターンないし画像マスク(C)の被覆領域(C1)が、感光性記録層(B1)もしくは(B2)の表面に転置された液体小滴もしくは固体粒子により構成された記録素子である。
請求項（抜粋）：
(A)寸法安定性基板、(B)ネガチブ処理感光性記録層(B1)もしくはポジチブ処理感光性記録層(B2)、および(C)上記感光性記録層(B1)もしくは(B2)の表面に直接載置され、いずれの場合にも、使用されるべき化学線に対して本質的に非透過性の被覆領域(C1)および非被覆領域(C2)のレリーフ様パターンを形成する画像マスクを有する、紫外帯域および可視帯域化学線に感応する記録素子であって、レリーフ様パターンないし画像マスク(C)の被覆領域(C1)が、感光性記録層(B1)もしくは(B2)の表面に転置された液体小滴もしくは固体粒子により構成されていることを特徴とする記録素子。
IPC (8件)：
G03F 7/025
, B41M 5/26
, G03F 7/00 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/027 502
, G03F 7/029
, G03G 13/32
, H01L 21/027
B41M 5/18 Q
, H01L 21/30 301 R
