特許
J-GLOBAL ID：200903086629122262
露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鳥居 洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-323852
公開番号（公開出願番号）：特開平5-134388
出願日： 1991年11月11日
公開日（公表日）： 1993年05月28日
要約：
【要約】【目的】 この発明は、ハレーション効果を低減ないしは解消して、高精度なパターン形成が行えるようにした露光方法を提供することを目的とする。【構成】 表面に段差がある被処理膜4上に一様な厚さを有するレジスト膜5を形成し、該レジスト膜5に所定の正規遮光パターン7を有するフォトマスクを被せて露光する露光方法において、正規遮光パターン7の近傍の上記段差に対応する位置に正規遮光パターン7に連続する補助遮光パターン8をつけ加えたフォトマスク6を用いる構成とする。
請求項（抜粋）：
表面に段差がある被処理膜上に一様な厚さを有するレジスト膜を形成し、該感光膜に所定の正規遮光パターンを有するフォトマスクを被せて露光する露光方法において、正規遮光パターンの近傍の上記段差に対応する位置に正規遮光パターンに連続する補助遮光パターンをつけ加えたフォトマスクを用いることを特徴とする露光方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 B
