特許
J-GLOBAL ID：200903086636802503
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 恵一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-222233
公開番号（公開出願番号）：特開平6-052517
出願日： 1992年07月30日
公開日（公表日）： 1994年02月25日
要約：
【要約】【目的】 良好な絶縁性を維持しつつシールド層間の間隔をより低減できる薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供する。【構成】 下部シールド層30と上部シールド層34との間に、下部ギャップ絶縁層32a、32bとMR膜31とリード26と上部ギャップ絶縁層33a、33bとが積層されており、下部ギャップ絶縁層及び上部ギャップ絶縁層の各々が、複数の層32a、32b又は33a、33bで形成されている。下部シールド層30上に下部ギャップ絶縁層32a、32bを介してMR膜31とリード26とを形成し、その上に上部ギャップ絶縁層33a、33bを介して上部シールド層34を形成する場合に、下部ギャップ絶縁層及び上部ギャップ絶縁層の各々が、複数回の成膜工程で形成される。
請求項（抜粋）：
下部シールド層と上部シールド層との間に、下部ギャップ絶縁層と磁気抵抗膜とリードと上部ギャップ絶縁層とが積層されている薄膜磁気ヘッドであって、前記下部ギャップ絶縁層及び前記上部ギャップ絶縁層の各々が、複数の層で形成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
引用特許：
前のページに戻る
