特許
J-GLOBAL ID：200903086638122194
走査型露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-175502
公開番号（公開出願番号）：特開平7-029810
出願日： 1993年07月15日
公開日（公表日）： 1995年01月31日
要約：
【要約】【目的】 解像不良を防止すること。【構成】 マスク7のデバイスパタ-ンを投影光学系によりウエハ-9上に投影し、照明光束1aに対してマスク7とウエハ-9とを走査することによりマスク7のデバイスパタ-ンをウエハ-9上に順次転写する走査型露光装置において、露光量設定手段13が、ウエハ-9上の膜厚分布に従いウエハ-9上の場所ごとの適性露光量を示す設定露光量f (x) を求め、露光量制御手段14が、設定露光量f (x) を満足するよう、ショット毎の照度I(x)を走査位置Xの関数として計算し、光量調整手段15に所定の照度I(x)が得られるよう指令を与え、光量調整手段15により光源1への投入電力を制御して光源1の輝度を調整して露光量を変化させながら、走査露光を行なう。
請求項（抜粋）：
マスクと被露光基板とを露光ビ-ムで走査することにより前記マスクのパタ-ンを前記被露光基板上に順次投影する走査型露光装置において、前記露光ビ-ムによる露光量を前記被露光基板上の場所に応じて変える露光量制御手段を有することを特徴とする走査型露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 518
, H01L 21/30 514 F
, H01L 21/30 516 D
