パターンの製造方法および転写フィルム

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-027956
公開番号（公開出願番号）：特開2000-228143
出願日： 1999年02月04日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【課題】 PDPの製造やLCD、有機EL素子、プリント回路基板、多層回路基板、マルチチップモジュールおよびLSI等を構成する電極の製造に好適に用いられるパターンの製造方法および当該製造方法に好適に用いられる転写フィルムを提供する。【解決手段】感放射線性成分を含有しない第一の無機粉体含有樹脂層上に、感放射線性成分を含有する第二の無機粉体含有樹脂層を形成し、当該第二の無機粉体含有樹脂層を露光・現像してパターンを顕在化させ、第一の無機粉体含有樹脂層をエッチング処理して第二の無機粉体含有樹脂層のパターンに対応する第一の無機粉体含有樹脂層のパターンを形成し、当該パターンを焼成処理する工程を含むことを特徴とするパターンの製造方法と、当該方法に用いられる転写フィルムを提供する。

請求項（抜粋）：

支持フィルム上に形成された感放射線性成分を含有しない第一の無機粉体含有樹脂層を基板上に転写し、当該第一の無機粉体含有樹脂層上に、感放射線性成分を含有する第二の無機粉体含有樹脂層を形成し、当該第二の無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該第二の無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターンを顕在化させ、第一の無機粉体含有樹脂層をエッチング処理して第二の無機粉体含有樹脂層のパターンに対応する第一の無機粉体含有樹脂層のパターンを形成し、当該パターンを焼成処理する工程を含むことを特徴とする、パターンの製造方法。

IPC (4件)：

H01J 9/02 , G02F 1/13 101 , H01J 11/02 , B32B 9/00

FI (4件)：

H01J 9/02 F , G02F 1/13 101 , H01J 11/02 B , B32B 9/00 A

Fターム (55件)：

2H088FA18 , 2H088FA29 , 2H088HA01 , 2H088HA02 , 2H088HA12 , 2H088HA14 , 2H088MA20 , 4F100AA00A , 4F100AA00B , 4F100AB24A , 4F100AB24B , 4F100AG00A , 4F100AG00B , 4F100AH03B , 4F100AH03H , 4F100AK01A , 4F100AK25B , 4F100AT00C , 4F100BA03 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10C , 4F100BA13 , 4F100CA30B , 4F100DE01A , 4F100DE01B , 4F100GB41 , 4F100GB43 , 4F100GB90 , 4F100JB08A , 4F100JB14B , 5C027AA01 , 5C027AA09 , 5C027AA10 , 5C040FA01 , 5C040GB03 , 5C040GB14 , 5C040GC18 , 5C040GC19 , 5C040GF18 , 5C040GF19 , 5C040GH03 , 5C040GH07 , 5C040JA15 , 5C040JA19 , 5C040JA21 , 5C040KA01 , 5C040KA09 , 5C040KA16 , 5C040KB04 , 5C040KB17 , 5C040KB18 , 5C040KB19 , 5C040MA24 , 5C040MA25

引用特許：

審査官引用 (2件)

リブ形成用感光性絶縁組成物、構造体及びリブの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-050250 出願人：凸版印刷株式会社
プラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法及び隔壁形成用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-199691 出願人：日本合成ゴム株式会社

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