特許
J-GLOBAL ID：200903086652872244
パルス整形回路
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-161410
公開番号（公開出願番号）：特開平5-014422
出願日： 1991年07月02日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：
【要約】【目的】 インタフェース受信回路のレシーバで受信した受信信号からアンダーシュートによるパルスを除去することを目的とする。【構成】 受信信号のRZ(Return to Zero)の性質を利用して正極受信パルスおよび負極受信パルスの立上がりおよび立下がりを検出してアンダーシュートによるパルスを判定し、マスクを付加してアンダーシュートによるパルスを除去することを特徴としている。【効果】 インタフェース受信回路で安定した受信クロックが得られる。
請求項（抜粋）：
アンダーシュートを有するバイポーラ受信信号が入力されるレシーバとユニポーラパルスに変換された正極受信パルスおよび負極受信パルスから受信クロックを再生するディジタルPLLとの間に設けられ、正極受信パルスおよび負極受信パルスからパルスの立下がりエッジを検出する立下がりエッジ検出手段、正極受信パルスおよび負極受信パルスからパルスの立上がりエッジを検出する立上がりエッジ検出手段、正極受信パルスの立下がりエッジから一定の幅を持つ第1の正マスクを生成する第1の正マスク生成手段、負極受信パルスの立下がりエッジから一定の幅を持つ第1の負マスクを生成する第1の負マスク生成手段、第1の正マスクと負極受信パルスの立上がりエッジパルスの位相を比較する第1のゲート、この比較において立上がりエッジパルスが上記第1のゲートを通過した場合には受信信号のRZ(Return to Zero)の性質からアンダーシュートによるパルスと判定し次に負極受信パルスの立上がりエッジが検出されるまで第2の負マスクを生成する第2の負マスク生成手段、第1の負マスクと正極受信パルスの立上がりエッジパルスの位相を比較する第2のゲート、この比較において立上がりエッジパルスが上記第2のゲートを通過した場合には受信信号のRZ(Return to Zero)の性質からアンダーシュートによるパルスと判定し次に正極受信パルスの立上がりエッジが検出されるまで第2の正マスクを生成する第2の正マスク生成手段、遅延手段により正極受信パルスを遅延させて同期させ、上記第2の正マスクを用いて該正極受信パルスに存在するアンダーシュートによるパルスを除去する手段、遅延手段により負極受信パルスを遅延させて同期させ、上記第2の負マスクを用いて該負極受信パルスに存在するアンダーシュートによるパルスを除去する手段、を備えたことを特徴とするパルス整形回路。
IPC (2件)：
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