特許

J-GLOBAL ID：200903086669541942

高周波焼灼装置

発明者： 窪田 哲丸
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-095111
公開番号（公開出願番号）：特開2000-287992
出願日： 1999年04月01日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：

【要約】【課題】組織の吸引生検が可能になるとともに、焼灼効率を高めた高周波焼灼装置を提供する。【解決手段】組織を穿刺する中空の針状電極(穿刺電極1)と、針状電極1の後端部に接続され、前記中空部分を介して組織を吸引する吸引手段(吸引装置11)または組織に薬液を注入する注入手段(送水装置18)の少なくとも一方の手段と、針状電極1に高周波電流を供給する高周波出力手段23とを具備する。

請求項（抜粋）：

組織を穿刺する中空の針状能動電極と、前記針状電極の後端部に接続され、前記中空部分を介して前記組織を吸引する吸引手段または前記組織に薬液を注入する注入手段の少なくとも一方の手段と、前記針状電極に高周波電流を供給する高周波出力手段と、を具備することを特徴とする高周波焼灼装置。

IPC (2件)：

A61B 18/14 ,  A61B 18/16

FI (2件)：

A61B 17/39 317 ,  A61B 17/39 330

Fターム (4件)：

4C060GG38 ,  4C060KK20 ,  4C060KK32 ,  4C060KK47